微弧離子鍍是將真空腔內(nèi)的伏安特性置于由穩(wěn)態(tài)的輝光放電向穩(wěn)態(tài)的弧光放電過渡時(shí)，氣體放電雙峰曲線上客觀存在的非穩(wěn)態(tài)正反歐姆轉(zhuǎn)變區(qū)間，利用因靶面放電而產(chǎn)生的熱積累至局部微熔的延緩間隔，實(shí)現(xiàn)靶面鍍料粒子經(jīng)濺射的級(jí)聯(lián)碰撞脫靶機(jī)制演變?yōu)闊岚l(fā)射脫靶（未達(dá)到熔融噴射程度）機(jī)制，從原理上既提高了脫靶粒子的離化率，又避免了“微熔滴”噴射的“高溫效應(yīng)”。 微弧離子鍍的開發(fā)是結(jié)合了濺射鍍膜與多弧鍍膜兩者鍍料粒子濺射出與沉積成膜上的優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)也避免了兩者在成膜過程中的不足之處，使成膜質(zhì)量與效率得以大幅提高。
硬質(zhì)CRTIALN鍍層硬度：>30 GPA；結(jié)合強(qiáng)度：>60 N；使用壽命：28~30萬次；失效方式：基體疲勞。
GLC鍍層摩擦系數(shù)：0.05~0.09；磨損率：3.0×10-17 m3/NM；GLC鍍層對(duì)摩磨損率：5.0×10-18 m3/NM。
江陰微弧金屬科技
