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微弧離子鍍是將真空腔內(nèi)的伏安特性置于由穩(wěn)態(tài)的輝光放電向穩(wěn)態(tài)的弧光放電過渡時，氣體放電雙峰曲線上客觀存在的非穩(wěn)態(tài)正反歐姆轉變區(qū)間，利用因靶面放電而產(chǎn)生的熱積累至局部微熔的延緩間隔，實現(xiàn)靶面鍍料粒子經(jīng)濺射的級聯(lián)碰撞脫靶機制演變?yōu)闊岚l(fā)射脫靶（未達到熔融噴射程度）機制，從原理上既提高了脫靶粒子的離化率，又避免了“微熔滴”噴射的“高溫效應”。 微弧離子鍍的開發(fā)是結合了濺射鍍膜與多弧鍍膜兩者鍍料粒子濺射出與沉積成膜上的優(yōu)點，同時也避免了兩者在成膜過程中的不足之處，使成膜質(zhì)量與效率得以大幅提高。

硬質(zhì)CRTIALN鍍層硬度：>30 GPA；結合強度：>60 N；使用壽命：28~30萬次；失效方式：基體疲勞。

GLC鍍層摩擦系數(shù)：0.05~0.09；磨損率：3.0×10-17 m3/NM；GLC鍍層對摩磨損率：5.0×10-18 m3/NM。